电子级-高纯精馏装置

高纯连续精馏装置主要由塔釜再沸器、精馏塔、塔顶冷凝器、回流比分配器/回流罐、塔内件、塔顶收集罐、塔釜收集罐、阀门及管件机泵、控制系统等主要部件组成,所有设备材料均采用316L不锈钢制作,塔釜再沸器结构设计主要根据处理量及工艺需求进行选型设计,加热方式主要采用导热油/蒸汽,换热器一般采用外置列管换热器或内置盘管式,塔顶冷却主要采用循环冷媒进行换热,由于实验规模现场一般未安装冷却塔,所以小试或中试一般配套外置循环制冷设备。

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产品描述

概述

由于国内电子消费市场快速发展,各类型电子行业领域对于芯片需求量巨大,所以国内这两年半导体行业发展迅速,电子材料、电子级溶剂、电子特气等电子化学品对于芯片制程至关重要,所以国内很多大型化工企业在该领域都进行了大量的研发及投资。

电子化学品生产工艺主要分为反应合成→分离纯化→产品充装等三个模块,由于电子级化学品生产对于装备要求极高,目前国内市场没有针对该类型产品的设备,所以AISHENGKE 公司与生产企业、国内知名研究机构进行合作,针对客户需求进行了工艺、装备研发及设计,开发了可用于生产电子级特气、电子材料、电子级溶剂等一体化连续中试及生产型装置。目前该装置已经在很多知名企业中有大量应用,并且得到市场的检验以及行业专家的认可。

 

产品概述

高纯连续精馏装置主要由塔釜再沸器、精馏塔、塔顶冷凝器、回流比分配器/回流罐、塔内件、塔顶收集罐、塔釜收集罐、阀门及管件机泵、控制系统等主要部件组成,所有设备材料均采用316L不锈钢制作,塔釜再沸器结构设计主要根据处理量及工艺需求进行选型设计,加热方式主要采用导热油/蒸汽,换热器一般采用外置列管换热器或内置盘管式,塔顶冷却主要采用循环冷媒进行换热,由于实验规模现场一般未安装冷却塔,所以小试或中试一般配套外置循环制冷设备。

高纯连续精馏装置配置有多种规格型号,可供不同产品精制及处理量需要选择、配用,高纯精馏装置设备与物料接触部分全部采用电解抛光处理,电解抛光采用日本处理工艺,后处理工艺属于核心关键,属于技术保密部分,阀门采用EP等级隔膜阀或波纹管阀,系统管路连接方式采用VCR或焊接形式,设备连接部分全部采用法兰连接,安装更换非常方便,仪表部分采用EP级产品,液位计及物料输送泵属于AISHENGKE公司专利定制件,整套撬装系统在集成过程中需要在洁净间完成组装及焊接,整套系统设计对于加工及组装要求极高。(如电子级化学品应用属于半导体级别,则整个分离纯化工艺设计及设备要求需要另行设计,与该设计差别性很大,整套系统设计及制造需要提高一个等级。)

本装置控制系统采用PLC集成控制,自控系统能达到通过查看流程界面,翻阅查看储存的历史工艺数据,能调阅各工艺参数曲线,实现压力、温度、流量的精确控制与系统稳定,配置多级关键的保护系统,通过一些安全连锁设计确保装置和操作人员的安全。

设计目标是为客户建立高质量高水平的试验装置撬装平台。装置的整体水平要求自动化程度高,数据精确度及重复性好,操作方便,安全可靠并能长周期稳定运行。

 

技术参数

根据客户要求连续化设计

设备材质:不锈钢316L、哈氏合金、衬氟等。

塔径(中试规模): DN50、DN80、DN100、DN150等,具体规格以工艺计算结果为准;

塔高:根据物性以及分离要求进行ASPEN计算或小试结果得到的理论板数进行设计及非标定制;

填料类型(后处理):5mmθ环金属丝网填料、玻璃弹簧填料、四氟鲍尔环、规整填料等。

塔釜设计温度:常温~200℃,常温~300℃

设计压力:-1bar~10bar(根据客户要求进行设计)。

回流方式:液位差回流/强制回流,液位差回流采用回流比分配器(ASK专利产品)进行控制,回流比调节范围1:99/99:1;也可以采用回流罐+泵进行控制,实现回流比调节。

控制系统:PLC集成控制,实现温度、压力、回流比、流量、液位、搅拌调速控制与数据实时采集。

选配:

真空系统、加热循环机组、制冷循环机组、高低温一体机:国产/进口供客户选择。

以上参数仅供参考,具体技术要求根据客户需求定制。

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