产品描述
源瓶工厂主要研发及生产针对CVD/ALD工艺制程中各类型液体前驱体、固态前驱体包装容器，工厂配备千级、万级及十万级洁净室，严格控制生产环境的洁净度，确保产品最终达到半导体要求，公司还采购了先进的激光下料、CNC精密加工、自动设备焊接、管道微焊、自动抛光、精密检测等国内外先进设备。
公司引进了日本表面处理工艺，确保源瓶内表面电化学抛光及精密清洗达到半导体先进水平，获得国内外客户的高度认可。已为客户开发、试制并批量供应了多种类型的取样及存储容器，广泛应用于半导体、液晶、光伏、LED等领域，完全满足行业的高品质要求。
详细参数：
| 材料 | 阀件：316L EP；瓶体：316L（提供钛、哈氏合金）内部EP处理，Ra≤0.15μm | |
| 可装化学品纯度 | ≤99.9999999%（9N） | |
| 气密性检测 | ≤1.0X10-10mbar.L/S（也参考阀门漏率） | |
| 介质 | 固态/硅吸附前驱体材料、硅基材料和高纯有机化合物 | |
| 出场可检测项目 |
抗压性、气密性、水分、氧含量、颗粒物、粗糙度、金属离子析出等 |
|
| 可提供制造认证项目 |
UN\压力容器和ASME UM U项目 |
|
| 容积与尺寸 |
供应了超过200种规格的容器（25mL-26m³） |
|
| 其他选项 | 接口形式、阀门数量、输出及清扫工艺等 | |
关键词：
高纯度化学品取样瓶
推荐产品
欢迎您的留言咨询
我们的工作人员将会在24小时之内（工作日）联系您，如果需要其他服务，欢迎拨打服务热线：400-928-0585
如果您有更多需求，点击按钮，提交信息，我们会第一时间给您回复。
If you have more requirements, click the button to submit information, and we will reply to you as soon as possible.
